ASML,这家全球领先的光刻机制造商,在imec的ITF World 2024会议上宣布了其High-NA EUV光刻机的最新成就,成功刷新了晶圆生产速度的纪录。这一突破性进展,让ASML的名字再次成为半导体行业的热门话题。
High-NA EUV光刻技术是ASML的最新研发成果,这种技术使得晶圆生产速度大大提升。根据ASML的前任总裁兼技术长,现任公司顾问的Martin van den Brink所述,新光刻机的生产速度已经达到每小时400至500片晶圆,相比于当前标准的EUV光刻机每小时200片晶圆的速度,提升了至少一倍以上。这不仅标志着产能的显著提升,也意味着成本的有效降低。